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        雙頻激光干涉儀

        LH1000雙頻激光干涉儀

        產品描述:

        光刻機專用雙頻激光干涉儀
        可構建XY位移臺等多軸測量系統
        采用直接輸出線偏振光、大功率、大頻差雙頻激光器
        無圓偏振光轉線偏振光非線性誤差
        大功率可同時測量更多數量的軸向位移
        大頻差,測量速度更快

        服務熱線:4008168900
        立即咨詢

        Information in English:

        LH1000 Dual-frequency Interferometer.pdf

        Nonlinear error analysis and experimental measurement of.pdf


        專為光刻機配套開發的高精度測量系統;

        通過國家重大專項“極大規模集成電路制造技術及成套工藝”項目驗收。

        采用直接輸出線偏振光的雙頻激光器;

        非線性高精密測量系統,測量更精準;

        可提供1~20MHz頻差內任意頻差產品,滿足各種測量速度需要。

        光源和測量信號接收單元分體式設計,方便搭建XY位移臺等多軸測量系統;

        精巧的測量信號光纖接收頭,即使空間狹小也能方便安裝;

        標準光刻機干涉儀安裝尺寸和數據接口,可直接替換現有產品。




        型號

        頻差(MHz)

        最小出光功率(μW)

        光斑尺寸(mm)

        穩頻精度(ppm)

        LH1000A

        1.5±0.5

        >500

        6

        ±0.02

        LH1000B

        2.5±0.5

        > 500

        6

        ±0.02

        LH1000C

        3.5±0.5

        > 500

        3, 6, 9

        ±0.02

        LH1000D

        4.5±0.5

        >500

        6, 9

        ±0.02

        LH1000DL

        5.5±0.5

        > 500

        6, 9

        ±0.02

        LH1000EL

        6.5±0.5

        >500

        6

        ±0.02

        LH1000FL

        7.5±0.5

        >500

        6, 9

        ±0.02

        LH1000GL

        8.5±0.5

        > 500

        9

        ±0.02

        LH1000H

        9.5±0.5

        > 500

        3, 6, 9

        ±0.02

        LH1000I

        10.0-20.0(按需定制)

        > 500

        3, 6, 9

        ±0.02

        注:可根據需求定制更小頻差范圍。

        微信截圖_20210616121113.png

         


        懇請注意:因市場發展和產品開發的需要,本產品資料中有關內容可能會根據實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

        LH1000雙頻激光干涉儀應用于尼康光刻機后,其工作臺精度由原來的23nm提高到6nm!

        圖片1.jpg


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